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第4章 双工作台研究完成

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台控制了芯片生产中的纹路刻蚀阶段。

    而在芯片制造的过程中,并不是经过一次曝光就可以完成的。

    是要经过多次曝光处理的。

    这也就意味着,在芯片制作过程中要进行多次对准操作(每次曝光都要更换不同的掩膜,掩膜与硅晶圆之间每次都要对准操作)。

    可芯片的每个元件之间都只有几纳米的间隔。

    所以在这种情况下,掩膜与硅晶圆之间的对准误差都必须控制在几纳米范围内。

    一次对准可能相对来说比较容易,但芯片的制造需要多次曝光多次对准。

    在曝光完一个区域之后,放置硅晶圆的曝光台就必须快速进行移动,接着曝光下一个需要曝光的区域,想要在多次快速移动中实现纳米级别的对准,这个难度相当大。

    可这些问题在王为的超级院士能力(定向)的光辉下,都不再是问题。

    “非常完美,精度控制在10埃米(也就是一纳米)以下!”

    恍若肩上的重担卸下来是的,王为长长的舒了一口气。

    只要再将这个通过专利审核,就可以拿到五天的寿命奖励了。

    就在这时,系统的提示音也如期而至。

    “叮!短期科研方向:双工作台。”

    “完成度:100%!”

    “中期科研方向:1nm光刻机。”

    “完成度:33.3%!”

    “现发布新的短期科研方向:高抛光度物镜镜头!”

    “专利审核通过奖励寿命:1天!”

    “研究成果获得应用奖励寿命:2天!”

    ……

    接着又是一阵良久的沉默。

    然而不在沉默中爆发,就在沉默中消亡!

    “好家伙,系统可真有你的啊!”

    “奖励没到,先把下一个任务给我送过来了…”

    “那些万恶的资本家到你这来的话,说不定都得免费给你做苦力!”

    做工不给钱,这是人干的事嘛?

    “叮!宿主,这是符合规则的…”

    “已经说过必须要有专利及应用才可以得到寿命返还…”

    “提前发布短期科研任务也是符合流程的…”

    “况且,早得到任务就可以早一些投入研究中不是吗?”

    虽然这么一听,系统好像确实是为他着想一样。

    可是王为却怎么都不得劲。

    众所周知,光刻机三大难点。

    分别是双工作台,光源以及镜片。

    前身做的工作就是与双工作台有关的,所以耗费的时间少。

    大概从一片空白到全部结束,只花费了五个小时的样子。

    可接下来的这个1nm光刻机物镜镜头他却毫无头绪。

    对于光学领域的高级知识他只了解一点而已。

    可以说真的是从零开始。

    剩下大约两天半的寿命不一定够。

    当然,这只是王为预估计的。

    所以保险起见,还是得赶快出去把那已经完成的一天寿命的奖励领到。

    这样他才能专心的搞科研工作。

    “转换清醒时间!”

    随着心念一动,黑暗的系统空间上方突然逐渐白化。

    由上到下,就像褪去了一层黑色的外皮一样。

    “哎对了,系统,我今天没用完的时间可以余下留到别的时间用吗?”

    “叮!一旦拆封,概不退换!”

    “倒计时半小时开始!”

    “29.59!”

    “29.58!”
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